在超聲檢查中，耦合劑殘留物有時可能在超聲圖像上形成偽影，干擾對組織結構的觀察和診斷。這在腔道超聲中也可能發生，盡管腔道耦合劑通常設計為易于清潔。對腔道用耦合劑殘留偽影的理解和處理，有助于獲得更清晰的圖像。

耦合劑殘留物可能引起的偽影類型包括：

衰減偽影： 如果耦合劑層過厚或含有微小氣泡（如使用不當或產品質量問題），超聲波在穿過耦合劑層時會發生過度衰減，導致耦合劑下方深層結構的信號減弱，圖像變暗。

多重反射偽影： 如果耦合劑層與探頭或組織界面形成反射面，可能發生多次反射，產生額外的、實際上不存在的線條或結構。

后方增強偽影： 如果耦合劑成分對超聲波的衰減非常小，在其后方可能出現信號增強的現象，使后方組織顯得異常亮。

處理腔道用耦合劑殘留偽影的方法：

適量使用： 避免擠壓過量耦合劑，只需足夠覆蓋探頭工作表面并填充與粘膜之間的空隙即可。

均勻涂抹，排除氣泡： 在涂抹耦合劑或套探頭套時，應確保耦合劑均勻分布，盡量排出氣泡。

選擇高質量耦合劑： 高品質的腔道用耦合劑通常具有均勻細膩的質地，不易產生氣泡，聲學性能穩定，能有效減少偽影。

檢查后及時清潔： 檢查完成后，應及時用柔軟的紙巾或濕巾輕輕擦拭清除探頭和患者體表/腔道口的耦合劑殘留物。對于腔道檢查，應告知患者檢查后注意清潔。